16年央美设计怎么考的

中央美术学院设计类考试在2015年进行了重大改革，自2016年起延续了"造型基础"和"设计基础"两科制的考试模式。以下是2016年及之后几年的考试特点和备考建议：

一、考试科目构成

造型基础

- 考查内容：素描（含几何形体、静物、人物头像等）、色彩（含色彩理论、静物色彩、人物色彩等）、速写（含人物动态、场景速写等）。

- 考试要求：强调基础技能与造型思维能力，注重对物体结构、光影关系的理解。

设计基础

- 考查内容：设计创意（含平面设计、产品设计、环境设计等方向）、设计评述（对设计作品的文字说明）、设计基础（素描/色彩/速写）。

- 考试要求：侧重创新思维、设计语言表达及问题解决能力，需结合个人体验进行设计。

二、考试形式与内容特点

命题创作

- 2016年出现"转基因鱼"等开放性题目，要求考生从个人体验出发，结合社会热点进行再设计。

- 后续考试中，设计题目多围绕生活用品、城市景观等实际问题，强调功能性与美学的结合。

设计评述

- 考生需对给定设计作品进行分析，评价其创意、可行性及美学价值，字数通常为800-1000字。

时间与试卷要求

- 2016年试卷尺寸为8开，考试时间未明确说明，但强调在规定时间内完成。

- 后续考试中，素描/色彩部分需在4开纸上完成，设计部分需提交纸质方案和设计说明。

三、备考建议

基础训练

- 素描：掌握几何形体结构、明暗关系及速写技巧，建议每天进行1-2小时练习。

- 色彩：学习色彩理论，通过临摹优秀作品提升调色能力，注意灰部细腻度与亮部清晰度。

创新与实践

- 关注社会热点，尝试将个人体验融入设计中，例如用"棒棒糖"题目考察再设计能力。

- 定期进行设计实践，积累不同场景的解决方案。

了解评分标准

- 央美设计注重"设计思维+表现能力"，需平衡创意与可行性，避免过度追求技巧而忽略设计本质。

四、注意事项

复习时需结合历年真题，但不要局限于固定题型，应培养灵活运用知识的能力。

设计说明部分需注意排版规范，确保题目要求要素完整呈现。

以上信息综合了中央美术学院设计类考试多年的改革趋势，考生可根据自身情况调整备考方向。